中国打造出EUV原型机 半导体技术差距缩短一半
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荷兰ASML科技独步全球，中国为实现晶片自主，正努力追赶。
（综合18日电）路透社17日披露，中国政府招募多名前荷兰半导体设备龙头艾司摩尔（ASML）前工程师，透过逆向工程方式，在深圳一处高度戒备的实验室内，成功打造出半导体制造关键设备“极紫外光机”（EUV）的原型机。这项进展震撼西方，EUV长期以来被视为科技冷战的核心技术，也是美国多年来试图全面阻止中国取得的先进制程关键。
知情人士指出，这部EUV原型机已于今年完成组装并启动运转，机体几乎占满整个机房，由一批曾任职艾司摩尔的工程师建造，其中包括多名已退休的华裔工程师。该设备目前已能成功产生极紫外光，但尚未具备量产可用晶片的能力。
今年4月，艾司摩尔执行长富凯曾表示，中国若要自行发展EUV技术，仍需很多、很多年。然而，路透首度揭露的这项原型机显示，中国在半导体自主化进程上的速度，已明显快于多数分析师原先预期。
不过，相关人士也强调，中国仍面临重大技术瓶颈，特别是在复制西方供应商生产的高精度光学系统方面，难度依然极高。两名知情者透露，中国之所以能完成原型机，部分原因在于可透过二手市场取得艾司摩尔较旧世代的零组件。
中国官方为该计画设定的目标，是在2028年前利用这部EUV原型机制造可用晶片；不过，接近计画的专家认为，较为现实的时程可能落在2030年。即便如此，仍远早于过去普遍认为中国至少需10年才能追赶西方先进晶片制程的判断。
这项进展被视为中国政府6年来全力推动半导体自主政策的重要成果，而半导体自主正是中国国家主席习近平的核心战略之一。与官方公开的产业政策不同，深圳的EUV计画全程秘密进行。
知情人士指出，该计画由习近平亲信、中共中央科技委员会主任丁薛祥主导，中国科技巨头华为在其中扮演关键协调角色。相关人士形容，这项行动堪称中国版的“曼哈顿计画”，对标美国二战时期研发原子弹的国家级工程。
一名知情者直言，中国的终极目标，是在完全国产的设备上生产先进晶片，“中国希望把美国百分之百踢出供应链”。
目前全球仅有艾司摩尔一家掌握完整EUV技术，一台EUV设备造价约2.5亿美元，是生产辉达、超微等公司设计之最先进晶片不可或缺的关键设备。艾司摩尔于2001年打造首台EUV原型机，并耗费近20年、投入数十亿欧元研发，才于2019年正式量产商用晶片。美国盟友，包括台湾、韩国与日本，目前均能取得艾司摩尔的EUV系统。